近日,據外媒爆料,由于臺積電3nm制程遭遇難題,蘋果下一代iPhone處理器A16芯片,將繼續采用臺積電5nm制程(或采用基于5nm優化的N4P高性能工藝),使得蘋果iPhone處理器首次連續3年停留在同一半導體制程。
對于該傳聞,臺積電回應稱,不評論市場傳聞,重申3nm制程按計劃進行。
不過,業界認為,蘋果可能也考慮到成本問題,才會推遲手機芯片采用3nm制程。而臺積電也為了改善成本,針對極紫外光(EUV)技術推動改善計劃,以及改良EUV機臺設計,還有導入先進封裝,讓3nm制程有更多的客戶愿意采用。
據臺灣《工商時報》報導,3nm制程面臨芯片設計復雜度以及晶圓代工成本飆升等問題,同時必須要用到的EUV光刻機的采購成本極高,產出吞吐量(throughput)提升速度也放緩,讓3nm晶圓代工報價恐達近3萬美元/片。
根據資料顯示,全球唯一的EUV光刻機供應商艾司摩爾(ASML),今年下半年推出的NXE:3600D價格高達1.4~1.5億美元,每小時吞吐量達160片12吋晶圓。此外EUV光刻機的能耗也是非常的大,達深紫外光(DUV)機臺10倍以上,通過特殊的反射鏡進行傳送,最后只剩下2%的光能進行曝光。
對此,業界透露,臺積電將啟動EUV持續改善計劃(CIP)。比如為了提升能源利用率,臺積電正通過機臺程序修正,將EUV光脈沖能量最佳化,并重新設計反射結構,有效提升3%反射率;臺積電還分析二氧化碳鐳射系統放大器的運轉數據,采用變動頻率取代固定頻率的運作模式,進一步強化放大器10%能源使用效率。臺積電還提升了EUV機臺5%能源使用效率,預計用在生產3nm制程的機臺上。
另外,隨著先進制程工藝的提升,使用的EUV光罩層數開始快速上升。比如,基于5nm制程改良得到的4nm工藝,EUV光罩層大約在14層之內,而3nm制程所使用的EUV光罩將達25層,這也導致成本暴增,不是所有的客戶都愿意采用。
對此,臺積電也積極的通過EUV持續改善計劃,以減少先進制程EUV光罩使用層數。據了解,臺積電通過EUV持續改善計劃有機使3nm制程所使用的EUV光罩層數降至20層,雖然芯片尺寸將略為增加,但是有助于降低生產成本與晶圓代工報價,讓客戶更有意愿導入3nm制程。
從semiwiki統整資料顯示,臺積電在開放創新論壇(OIP)放出的更多先進制程推進數據顯示,3nm制程在開放創新伙伴的設計技術協同優化(DTCO)下,目標PPA較5nm邏輯密度增加1.6倍、傳輸速度提升11%,能耗降低27%。目前該平臺關于3nm制程以下的技術檔案達38000個,開發中制程設計套件也超過了2600個。
不僅是先進制程,臺積電整合旗下包括SoIC(系統整合晶片)、InFO(整合型扇出封裝技術)、CoWoS(基板上晶片封裝)等3DIC技術平臺,命名為「TSMC 3DFabric」,提供業界最完整且最多用途的解決方案,可能采用臺積電3nm的美國處理器大廠AMD,以及臺灣的IC設計龍頭聯發科,從高效能運算(HPC)領域的3D IC、手機AP的Fan-out封裝,都需要TSMC 3DFabric支持。
臺積電總裁魏哲家在今年10月法說會指出,將延用鰭式場效電晶體(FinFET)架構,提供客戶最成熟的技術、最好的效能及最佳的成本,臺積電3nm推進時程也符合預期,已開發完整平臺支援高效能運算(HPC)及智能手機應用。
魏哲家指出,3nm制程節點有許多客戶參與,相較于5nm世代,預期首年會有更多新的產品設計定案(tape-out)。
魏哲家表示,臺積電3nm制程預計于2021年下半年試產,2022年下半年量產,由于制程上更為復雜,須要采用更多新設備,到時候成本一定比5nm制程高,預期2023年第一季將明顯貢獻營收,強化版的3nm N3E制程量產則是預定在3nm推出1年后。
至于《The Information》報導提到,臺積電就算最新制程延遲,仍有望成為首家生產3nm制程的業者,搶先英特爾、三星等芯片制造商,但蘋果iPhone 14恐怕無法如市場預期的采用3nm制程生產處理器芯片。
臺積電不久前推出了4nm N4P制程,做為臺積電5nm家族的第3個主要強化版本,N4P的效能較原先的N5增快11%,也較N4增快6%。相較于N5,N4P的功耗效率提升22%,晶體管密度增加6%。同時,N4P藉由減少光罩層數來降低制程復雜度且改善芯片的生產周期,展現了臺積電持續追求及投資提升制程技術的成果。
市場消息也指出,N4P基本上就是2022年蘋果新一代iPhone所搭載A16芯片所采用的制程。供應鏈透露, A16芯片將有架構上大幅更動,采用N4P制程可以透過小芯片封裝(Chiplet),再增加芯片的晶體管密度、降低成本,可以提高運算效能及有效降低功耗。
另外,最新消息還指出,蘋果計劃2023年推出第3代M系列處理器,代號分別為Ibiza、Lobos及Palma,將采用3nm制程,CPU核心數將達40個以上,遠遠超越M1 Pro及M1 Max的10核心設計。其中,前2款產品為MacBook Pro及Mac桌面機打造,后面1款用于iPad及MacBook Air等產品,生產時程也符合臺積電2022年下半年量產3nm制程,2023年供應給客戶的預期。